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 Multiscale modeling of plasma–surface interaction—General picture and a case study of Si and SiO2 etching by fluorocarbon-based plasmas 等离子体——表面相互作用的多尺度模拟——氟碳基等离子体刻蚀Si和SiO2的一般情况和实例研究
相关领域
等离子体刻蚀
蚀刻（微加工）
等离子体
纳米技术
等离子体处理
微电子
计算机科学
材料科学
工程物理
化学
物理
图层（电子）
量子力学
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期刊：Applied physics reviews 作者：Patrick Vanraes; Syam Parayil Venugopalan; Annemie Bogaerts 出版日期：2021-10-07 |
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