Multiscale modeling of plasma–surface interaction—General picture and a case study of Si and SiO2 etching by fluorocarbon-based plasmas

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标题	Multiscale modeling of plasma–surface interaction—General picture and a case study of Si and SiO2 etching by fluorocarbon-based plasmas 等离子体——表面相互作用的多尺度模拟——氟碳基等离子体刻蚀Si和SiO2的一般情况和实例研究相关领域等离子体刻蚀蚀刻（微加工）等离子体纳米技术等离子体处理微电子计算机科学材料科学工程物理化学物理图层（电子）量子力学
网址	https://doi.org/10.1063/5.0058904
DOI	10.1063/5.0058904 doi
其它	期刊：Applied physics reviews 作者：Patrick Vanraes; Syam Parayil Venugopalan; Annemie Bogaerts 出版日期：2021-10-07
求助人	zz 在 2025-01-15 00:32:29 发布自上海，悬赏 10 积分
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