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标题
Effect of annealing temperature on the optoelectronic properties and structure of NiO films
退火温度对NiO薄膜光电性能和结构的影响
相关领域
材料科学 非阻塞I/O 氧化镍 薄膜 电阻率和电导率 透射率 溅射沉积 功勋 退火（玻璃） 光电子学 氧化物 溅射 晶格常数 结晶度 复合材料 光学 纳米技术 冶金 衍射 工程类 物理 催化作用 化学 电气工程 生物化学
网址
https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2021.10.071
DOI
10.1016/j.ceramint.2021.10.071 doi
其它 期刊：Ceramics International
作者：Mingchen Li; Mingjiang Dai; Songsheng Lin; Sheng‐Chi Chen; Jing Xu; et al
出版日期：2021-10-15
求助人
韩大大 在 2024-12-17 13:51:07 发布自浙江，悬赏 10 积分
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