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 The influence of oxygen partial pressure on the performance and stability of Ge-doped InGaO thin film transistors 氧分压对Ge掺杂InGaO薄膜晶体管性能和稳定性的影响
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期刊：Ceramics international 作者：Kwang-Ho Lee; Kyung‐Chul Ok; Hyojoong Kim; Jin‐Seong Park 出版日期：2014-03-01 |
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