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标题
Electron beam lithography: resolution limits and applications
电子束光刻：分辨率极限和应用
相关领域
抵抗 电子束光刻 制作 材料科学 平版印刷术 下一代光刻 反应离子刻蚀 光电子学 分辨率（逻辑） 纳米光刻 蚀刻（微加工） 纳米技术 X射线光刻 阴极射线 光学 电子 物理 病理 人工智能 医学 量子力学 计算机科学 替代医学 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1016/s0169-4332(00)00352-4
DOI
10.1016/s0169-4332(00)00352-4 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Christophe Vieu; F. Carcenac; A. Pépin; Y. Chen; M. Mejias; et al
出版日期：2000-09-01
求助人
斯文傲芙 在 2025-03-06 21:28:34 发布自上海，悬赏 10 积分
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