The Impact of Interfacial Layers on the Thermal Boundary Resistance and Residual Stress in GaN on Si Epitaxial Layers

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标题	The Impact of Interfacial Layers on the Thermal Boundary Resistance and Residual Stress in GaN on Si Epitaxial Layers 界面层对硅外延层GaN中边界热阻和残余应力的影响相关领域材料科学光电子学外延氮化镓宽禁带半导体硅热导率残余应力图层（电子）兴奋剂复合材料
网址	https://doi.org/10.1115/ipack2015-48259
DOI	10.1115/ipack2015-48259 doi
其它	期刊：作者：Luke Yates; Thomas L. Bougher; Thomas E. Beechem; Baratunde A. Cola; Samuel Graham 出版日期：2015-07-06
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