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 Influence of external circuitry on CF4 breakdown process in capacitively coupled plasma 外部电路对电容耦合等离子体中CF 4击穿过程的影响
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：Zhaoyu Chen; Jingwen Xu; Hongyu Wang; Hao Wu; Wei Jiang; et al 出版日期：2023-09-01 |
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