标题 |
Gate induced drain leakage in nanowire gate all around field effect transistors and methods to reduce GIDL
纳米线栅极周围场效应晶体管中的栅极诱导漏极泄漏和降低GIDL的方法
相关领域
泄漏(经济)
纳米线
光电子学
材料科学
晶体管
场效应晶体管
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电气工程
电压
工程类
经济
宏观经济学
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其它 |
期刊:AIP conference proceedings 作者:Anhao Zhang 出版日期:2023-01-01 |
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