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标题
Effects of proton implantation for expansion of basal plane dislocations in SiC toward suppression of bipolar degradation: review and perspective
质子注入对SiC基面位错扩展抑制双极降解的影响:回顾与展望
相关领域
基面 材料科学 降级(电信) 质子 碳化硅 光电子学 半导体 纳米技术 化学 电气工程 复合材料 结晶学 物理 量子力学 工程类
网址
DOI
10.35848/1347-4065/ad1779 doi
求助人
he 在 2024-01-23 21:06:56 发布自福建,悬赏 10 积分
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