An Improved Compact Model for Doped Double-Gate Metal–Oxide–Semiconductor Field-Effect Transistors Using a Rigorous Perturbation Method and Higher-Order Correction - 科研通

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标题	An Improved Compact Model for Doped Double-Gate Metal–Oxide–Semiconductor Field-Effect Transistors Using a Rigorous Perturbation Method and Higher-Order Correction 基于严格微扰法和高阶修正的掺杂双栅金属氧化物半导体场效应晶体管的改进紧凑模型相关领域泊松方程场效应晶体管晶体管泊松分布阈值电压兴奋剂 MOSFET 泰勒级数电压计算物理学栅氧化层材料科学光电子学电子工程物理数学分析数学量子力学工程类统计
网址	https://doi.org/10.7567/jjap.52.04cc17
DOI	10.7567/jjap.52.04cc17 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Xixiang Feng; Weiling Kang; Qi Cheng; Yijian Chen 出版日期：2013-03-21
求助人	Micheal 在 2025-03-13 18:59:38 发布自英国，悬赏 10 积分
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