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标题
Theoretical research on suppression ratio of dynamic gas lock for extreme ultraviolet lithography contamination control
用于极紫外光刻污染控制的动态气锁抑制比理论研究
相关领域
极紫外光刻 极端紫外线 材料科学 扩散 纵横比（航空） 流量（数学） 变量（数学） 污染控制 平版印刷术 机械 对流 紫外线 污染 核工程 光电子学 光学 物理 热力学 激光器 工程类 数学分析 生态学 数学 生物
网址
https://doi.org/10.1116/6.0001852
DOI
10.1116/6.0001852 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena
作者：Jiazheng Sun; Kuibo Wang; Xiaobin Wu; Yan Luo; Ding Jin-bin
出版日期：2022-06-22
求助人
QRE 在 2024-12-20 19:44:17 发布自北京，悬赏 10 积分
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