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 Characterization of titanium nitride etch rate and selectivity to silicon dioxide in a Cl2 helicon-wave plasma Cl2螺旋波等离子体中氮化钛刻蚀速率和对二氧化硅选择性的表征
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Hsien-Ming Chiu; Tsang‐Lang Lin; Yuan Hu; Keh-Chyang Leou; Horng‐Chih Lin; et al 出版日期：2001-03-01 |
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