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 The advantages of employing i-a-SiOX:H as a buffer layer in Hydrogenated Amorphous Silicon Oxide solar cells 氢化非晶氧化硅太阳电池采用i-a-SiOX：H作为缓冲层的优点
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期刊：Physica Scripta 作者：Tayeb Youcef Belabbas; Abbas Belfar 出版日期：2024-10-14 |
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