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标题
Influence of oxygen vacancies in ALD HfO2-x thin films on non-volatile resistive switching phenomena with a Ti/HfO2-x/Pt structure
ALD HfO2-x薄膜中氧空位对Ti/HfO2-x/Pt结构非易失性电阻开关现象的影响
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网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2017.11.016
DOI
10.1016/j.apsusc.2017.11.016 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：A.S. Sokolov; Yu-Rim Jeon; Sohyeon Kim; Bon‐Cheol Ku; Dong-Hwan Lim; et al
出版日期：2017-11-06
求助人
沈家宁 在 2025-02-02 00:37:02 发布自福建，悬赏 10 积分
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