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标题
Cerium contamination on silicon carbide optics during CMP: TOF-SIMS, XPS characterization, and ReaxFF MD simulation
CMP过程中碳化硅光学器件上的铈污染:TOF-SIMS、XPS表征和ReaxFF MD模拟
相关领域
碳化硅 X射线光电子能谱 污染 材料科学 表征(材料科学) 雷亚克夫 化学工程 分析化学(期刊) 纳米技术 化学 冶金 环境化学 分子动力学 计算化学 生态学 原子间势 工程类 生物
网址
DOI
10.1016/j.apsusc.2025.163390 doi
其它 期刊:Applied Surface Science
作者:Yongjie Li; Longxiang Li; Hongda Wei; Xingchang Li; Yiren Wang; et al
出版日期:2025-04-01
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Reine 在 2025-04-29 14:01:31 发布自上海,悬赏 10 积分
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