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![]() CMP过程中碳化硅光学器件上的铈污染:TOF-SIMS、XPS表征和ReaxFF MD模拟
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期刊:Applied Surface Science 作者:Yongjie Li; Longxiang Li; Hongda Wei; Xingchang Li; Yiren Wang; et al 出版日期:2025-04-01 |
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