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标题
High-mobility wide bandgap amorphous gallium oxide thin-film transistors for NMOS inverters
用于NMOS反相器的高迁移率宽带隙非晶氧化镓薄膜晶体管
相关领域
NMOS逻辑 材料科学 氧化镓 光电子学 薄膜晶体管 无定形固体 带隙 晶体管 氧化物 宽禁带半导体 纳米技术 电气工程 冶金 图层(电子) 电压 结晶学 化学 工程类
网址
DOI
10.1063/5.0159529 doi
其它 期刊:Applied Physics Reviews
作者:Yong Zhang; Chi‐Hsin Huang; Kenji Nomura
出版日期:2024-03-01
求助人
林先森 在 2024-08-02 17:29:23 发布自福建,悬赏 10 积分
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