Material removal on silicon towards atomic and close-to-atomic scale by infrared femtosecond laser

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标题	Material removal on silicon towards atomic and close-to-atomic scale by infrared femtosecond laser 红外飞秒激光对硅原子级和近原子级材料的去除相关领域材料科学等离子体激光器通量飞秒烧蚀硅撞击坑激光烧蚀反冲电离原子物理学光学光电子学离子物理工程类航空航天工程天文量子力学
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2023.107368
DOI	10.1016/j.mssp.2023.107368 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Haojie An; Jinshi Wang; Fengzhou Fang 出版日期：2023-05-01
求助人	辉辉不爱学习在 2024-05-07 17:53:44 发布自湖北，悬赏 10 积分
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