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标题
Effect of annealing on the structural, optical and surface properties of chromium oxide (Cr2O3) thin films deposited by e-beam evaporation for plasma etching applications
退火对电子束蒸发等离子体刻蚀氧化铬(Cr2O3)薄膜结构、光学和表面性能的影响
相关领域
材料科学 微晶 X射线光电子能谱 无定形固体 薄膜 分析化学(期刊) 退火(玻璃) 氧化物 化学工程 复合材料 冶金 结晶学 纳米技术 化学 工程类 色谱法
网址
DOI
10.1016/j.jallcom.2021.160087 doi
求助人
qiuqiu 在 2024-08-26 23:06:31 发布自重庆,悬赏 10 积分
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