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 Development of an inorganic photoresist for DUV, EUV, and electron beam imaging 用于DUV、EUV和电子束成像的无机光刻胶的研制
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期刊：Proceedings of SPIE 作者：Markos Trikeriotis; Woo Jin Bae; Eric M. Schwartz; Marie Krysak; Neal Lafferty; et al 出版日期：2010-03-11 |
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