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 Electron induced ionization of plasma processing gases: C4Fx(x = 1–8) and the isomers of C4F6and C4F8 等离子体处理气体的电子诱导电离：C4 Dx（x = 1-8）以及C4 F6和C4 F8的同分体
相关领域
电离
等离子体
原子物理学
电子
分析化学（期刊）
材料科学
物理
离子
化学
核物理学
色谱法
量子力学
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| 备注 |
只需要正版，不要草稿，草稿看着不舒服，谢谢
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| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Physics D Applied Physics 作者：Dhanoj Gupta; Heechol Choi; Deuk-Chul Kwon; Jung‐Sik Yoon; Mi‐Young Song 出版日期：2018-02-23 |
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