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300-nm-thick, ultralow-loss silicon nitride photonic integrated circuits by 8-in. foundry production
300纳米厚、8英寸超低损耗氮化硅光子集成电路。铸造生产
相关领域
材料科学
硅
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Xuguang Zhang; Yuxin Liang; Y. Chen; Bitao Shen; Huang Jia-hui; et al 出版日期:2024-09-16 |
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