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 Mechanical stresses in silicon carbonitride films obtained by PECVD from hexamethyldisilazane 六甲基二硅氮烷PECVD制备碳氮化硅薄膜的机械应力
相关领域
等离子体增强化学气相沉积
材料科学
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薄膜
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期刊：Applied Surface Science 作者：V. R. Shayapov; Yu. M. Rumyantsev; A.A. Dzyuba; B. M. Ayupov; Н. И. Файнер 出版日期：2013-01-01 |
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