The effect of nitrogen content on the structure and mechanical properties of TiN films produced by magnetron sputtering

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标题	The effect of nitrogen content on the structure and mechanical properties of TiN films produced by magnetron sputtering 氮含量对磁控溅射TiN薄膜结构和力学性能的影响相关领域锡材料科学氮化钛氮气溅射沉积压痕硬度溅射氮化物晶格常数钛腔磁控管复合材料冶金薄膜衍射图层（电子）化学纳米技术微观结构光学有机化学物理
网址	https://doi.org/10.1016/0042-207x(95)00241-3
DOI	10.1016/0042-207x(95)00241-3 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：R.D. Arnell; J.S. Colligon; KF Minnebaev; VE Yurasova 出版日期：1996-05-01
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