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  Study of resolution limits due to intrinsic bias in chemically amplified photoresists 化学放大光刻胶中固有偏压引起的分辨极限的研究
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Sergei V. Postnikov; M. D. Stewart; Hoang V. Tran; Mark A. Nierode; David R. Medeiros; et al 出版日期：1999-11-01 |
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