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 Effect of rapid thermal annealing temperature on the formation of CoSi studied by x-ray photoelectron spectroscopy and micro-Raman spectroscopy 用x射线光电子能谱和显微拉曼光谱研究快速热退火温度对CoSi形成的影响
相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Jinshi Zhao; Lynette K. Ballast; Tim Z. Hossain; Rebecca E. Trostel; William Charles Bridgman 出版日期：2000-07-01 |
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