Characteristics of SiOC(-H) Thin Films Prepared by Using Plasma-enhanced Atomic Layer Deposition

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标题	Characteristics of SiOC(-H) Thin Films Prepared by Using Plasma-enhanced Atomic Layer Deposition 等离子体增强原子层沉积SiOC（-H）薄膜的特性相关领域原子层沉积材料科学图层（电子）等离子体沉积（地质）薄膜逐层光电子学纳米技术复合材料化学工程物理量子力学沉积物生物工程类古生物学
网址	https://doi.org/10.3938/jkps.59.3074
DOI	10.3938/jkps.59.3074 doi
其它	期刊：Journal of the Korean Physical Society 作者：Kwang-Man Lee; Chang Young Kim; Chi Kyu Choi; R. Navamathavan 出版日期：2011-11-15
求助人	Yan 在 2024-10-10 09:40:16 发布自上海，悬赏 10 积分
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