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 COMPOSITION, STRUCTURE, AND FUNCTIONAL PROPERTIES OF THIN SILICON NITRIDE FILMS GROWN BY ATOMIC LAYER DEPOSITION FOR MICROELECTRONIC APPLICATIONS (REVIEW OF 25 YEARS OF RESEARCH) 微电子用原子层沉积氮化硅薄膜的组成、结构和功能特性（25年研究回顾）
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期刊：Journal of Structural Chemistry 作者：V. Yu. Vasiliev 出版日期：2022-07-01 |
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