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![]() 等离子体硅烷浓度对SiH4/H2放电中非晶硅向微晶硅转变的影响
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期刊:Plasma Sources Science and Technology 作者:B. Strahm; A.A. Howling; L. Sansonnens; Ch. Hollenstein 出版日期:2006-11-24 |
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