Hydrofluoric Acid Etching of Silicon Dioxide Sacrificial Layers: I . Experimental Observations

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标题	Hydrofluoric Acid Etching of Silicon Dioxide Sacrificial Layers: I . Experimental Observations 二氧化硅牺牲层的氢氟酸蚀刻。实验观察相关领域缓冲氧化物腐蚀氢氟酸二氧化硅硅蚀刻（微加工）材料科学图层（电子）化学气相沉积多晶硅干法蚀刻反应离子刻蚀机车基质（水族馆）腐蚀坑密度表面微加工复合材料纳米技术光电子学冶金制作病理替代医学地质学海洋学薄膜晶体管医学
网址	https://doi.org/10.1149/1.2054696
DOI	10.1149/1.2054696 doi
其它	期刊：Journal of the Electrochemical Society 作者：David J. Monk; David S. Soane; Roger T. Howe 出版日期：1994-01-01
求助人	kelly 在 2024-05-29 15:22:30 发布自广东，悬赏 10 积分
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