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 Diamond-like amorphous carbon layer film by an inductively coupled plasma system for next generation etching hard mask 用于下一代蚀刻硬掩模的电感耦合等离子体系统制备类金刚石非晶碳层膜
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期刊：Thin Solid Films 作者：Se Jun Park; Dohyung Kim; Seungmoo Lee; Y.K. Ha; Mingyoo Lim; et al 出版日期：2018-10-01 |
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