High contact angle embedded barrier layer materials for next-generation 193 immersion lithography

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标题	High contact angle embedded barrier layer materials for next-generation 193 immersion lithography 用于下一代193浸入式微影的高接触角嵌入式阻挡层材料相关领域光刻胶浸没式光刻抵抗平版印刷术材料科学薄脆饼接触角光刻沉浸式（数学）聚合物纳米技术半导体器件制造图层（电子）光电子学复合材料纯数学数学
网址	https://doi.org/10.1117/12.2583735
DOI	10.1117/12.2583735 doi
其它	期刊：作者：Joshua A. Kaitz; Mingqi Li; Ryan Lee; Amy Kwok; Thomas Cardolaccia; et al 出版日期：2021-02-22
求助人	舒伯特在 2024-09-10 22:27:49 发布自中国，悬赏 20 积分
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