标题 |
Rectification of extreme ultraviolet lithography patterns by directed self-assembly: a roughness and defectivity study
通过定向自组装校正极紫外光刻图案:粗糙度和缺陷研究
相关领域
极紫外光刻
整改
平版印刷术
极端紫外线
材料科学
纳米技术
紫外线
表面光洁度
光学
光电子学
物理
复合材料
激光器
功率(物理)
量子力学
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期刊:Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者:Julie Van Bel; Lander Verstraete; Hyo Seon Suh; Philippe Bézard; Alain Moussa; et al 出版日期:2024-10-18 |
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