| 标题 |
 Process- and optoelectronic-control of NiOx thin films deposited by reactive high power impulse magnetron sputtering 反应大功率脉冲磁控溅射NiOx薄膜的工艺和光电控制
相关领域
材料科学
溅射沉积
溅射
分析化学（期刊）
非阻塞I/O
腔磁控管
高功率脉冲磁控溅射
薄膜
光电子学
纳米技术
化学
生物化学
色谱法
催化作用
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
杳鸢
模糊中正
劲秉
嗯哼
5度转角
Candice
王一博
无名老大
方羽
Loooong
VDC
菠萝菠萝哒
不配.
自信项链
丰知然
chen
cdercder
蜡笔小鑫
pluto
cocolu
皖公网安备34019202002308
