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The role of plasma chemistry on functional silicon nitride film properties deposited at low-temperature by mixing two frequency powers using PECVD
等离子体化学对PECVD混合双频功率低温沉积功能氮化硅薄膜性能的影响
相关领域
等离子体增强化学气相沉积 氮化硅 混合（物理） 等离子体 氮化物 硅 等离子体化学 化学 材料科学 化学工程 光电子学 纳米技术 物理 图层（电子） 工程类 量子力学
网址
https://doi.org/10.1039/c6cp00986g
AI链接 nih.govdoi.org
DOI
10.1039/c6cp00986g doi
其它 期刊：Physical Chemistry Chemical Physics
作者：Bibhuti B. Sahu; Yongyi Yin; Takayoshi Tsutsumi; Masaru Hori; Jeon G. Han
出版日期：2016-01-01
求助人
我要搞科研 在 2025-01-18 16:02:14 发布自日本，悬赏 10 积分
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