标题 |
Annealing effects of In2O3 thin films on electrical properties and application in thin film transistors
退火对In2O3薄膜电学性能的影响及其在薄膜晶体管中的应用
相关领域
薄膜
材料科学
薄膜晶体管
退火(玻璃)
无定形固体
光电子学
溅射沉积
粒度
载流子散射
晶体管
溅射
电子迁移率
散射
复合材料
纳米技术
光学
电气工程
结晶学
化学
电压
图层(电子)
工程类
物理
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Thin Solid Films 作者:Zhen Yuan; Xiaobo Zhu; Wei Xiong; Xing‐Min Cai; Bingpo Zhang; et al 出版日期:2011-03-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|