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 Thermal atomic layer etching of cobalt using sulfuryl chloride for chlorination and tetramethylethylenediamine or trimethylphosphine for ligand addition 硫酰氯用于氯化和四甲基乙二胺或三甲基膦用于配体加成的钴热原子层刻蚀
相关领域
硫酰氯
钴
化学
材料科学
分析化学（期刊）
无机化学
药物化学
有机化学
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| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Jessica A. Murdzek; Ann Lii-Rosales; Steven M. George 出版日期：2023-04-25 |
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