Effect of plasma power on growth process, chemical structure, and properties of PECVD films produced from hexamethyldisilane and ammonia

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标题	Effect of plasma power on growth process, chemical structure, and properties of PECVD films produced from hexamethyldisilane and ammonia 等离子体功率对六甲基二硅烷和氨制备PECVD薄膜生长过程、化学结构和性能的影响相关领域等离子体增强化学气相沉积氨等离子体过程（计算）功率（物理）化学计算机科学物理有机化学热力学量子力学操作系统
网址	https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2024.131131
DOI	10.1016/j.surfcoat.2024.131131 doi
其它	期刊：Surface & Coatings Technology 作者：Е. N. Ermakova; Vladimir R. Shayapov; Аndrey А. Saraev; E. A. Maximovsky; V. V. Kirienko; et al 出版日期：2024-07-14
求助人	hh 在 2025-03-07 15:19:43 发布自湖北，悬赏 10 积分
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