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Effect of plasma power on growth process, chemical structure, and properties of PECVD films produced from hexamethyldisilane and ammonia

等离子体增强化学气相沉积 等离子体 过程(计算) 功率(物理) 化学 计算机科学 物理 有机化学 热力学 量子力学 操作系统
作者
Е. N. Ermakova,Vladimir R. Shayapov,Аndrey А. Saraev,E. A. Maximovsky,V. V. Kirienko,M. N. Khomyakov,V. S. Sulyaeva,Aleksey Kolodin,E. Yu. Gerasimov,M. L. Kosinova
出处
期刊:Surface & Coatings Technology [Elsevier]
卷期号:490: 131131-131131 被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.surfcoat.2024.131131
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