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 Berry Curvature-Driven Valley Nernst Effect in Monolayer WSe2 单层WSe2中Berry曲率驱动的谷能斯特效应
相关领域
单层
Berry连接和曲率
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期刊：Nano Letters 作者：Jae Won Choi; Won‐Yong Lee; Takashi Kikkawa; Min‐Sung Kang; Gil‐Sung Kim; et al 出版日期：2025-04-09 |
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