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标题
p-channel NiO thin film transistors grown with high k ZrO2 gate oxide for low voltage operation
用高k ZrO2栅氧化物生长的低电压p沟道NiO薄膜晶体管
相关领域
材料科学 薄膜晶体管 非阻塞I/O 栅极电介质 电介质 高-κ电介质 氧化镍 退火(玻璃) 等效氧化层厚度 光电子学 栅氧化层 阈值电压 薄膜 氧化物 溅射沉积 场效应 金属浇口 溅射 晶体管 电气工程 电压 纳米技术 图层(电子) 复合材料 冶金 生物化学 化学 工程类 催化作用
网址
DOI
10.1088/1402-4896/acd08c doi
其它 期刊:Physica Scripta
作者:Parashurama Salunkhe; Dhananjaya Kekuda
出版日期:2023-05-04
求助人
清新的沛蓝 在 2025-03-19 18:16:30 发布自山西,悬赏 10 积分
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