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Optical emission spectroscopy as a tool for studying, optimizing, and monitoring plasma-assisted atomic layer deposition processes
光学发射光谱作为研究、优化和监测等离子体辅助原子层沉积过程的工具
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期刊:Journal of vacuum science & technology 作者:Adriaan J. M. Mackus; Sbs Stephan Heil; E Erik Langereis; Hcm Harm Knoops; van de Mcm Richard Sanden; et al 出版日期:2010-01-01 |
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