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 Silicon implantation and annealing in β-Ga2O3: Role of ambient, temperature, and time β-Ga2O3中硅的注入和退火：环境、温度和时间的作用
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期刊：Journal of applied physics 作者：Katie Rose Gann; N. Pieczulewski; Cameron A. Gorsak; Karen N. Heinselman; Thaddeus J. Asel; et al 出版日期：2024-01-05 |
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