| 标题 |
 Reaction Mechanism of Area-Selective Atomic Layer Deposition for Al2O3 Nanopatterns Al2O3纳米图案的区域选择性原子层沉积反应机理
相关领域
原子层沉积
材料科学
成核
单层
沉积（地质）
纳米技术
薄膜
图层（电子）
化学工程
吸附
选择性
催化作用
物理化学
化学
有机化学
工程类
古生物学
生物
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Seunggi Seo; Byung Chul Yeo; Sang Soo Han; Chang Mo Yoon; Joon‐Young Yang; et al 出版日期：2017-11-14 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
爱静静
寻道图强
丰盛的煎饼
加菲丰丰
杳鸢
shinysparrow
oceanao
竹筏过海
贰鸟
乐乐乐乐乐乐
YifanWang
西红柿炒番茄
Migue
ShowMaker
spark810
tianzml0
kento
田様
嗯哼
冒险寻羊
皖公网安备34019202002308
