Thermal annealing of arsenic tri-sulphide thin film and its influence on device performance

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标题	Thermal annealing of arsenic tri-sulphide thin film and its influence on device performance 三硫化砷薄膜的热退火及其对器件性能的影响相关领域材料科学退火（玻璃）薄膜悬空债券表面粗糙度衰减折射率空隙（复合材料）复合材料微观结构表面光洁度光电子学光学硅纳米技术物理
网址	https://doi.org/10.1063/1.3310803
DOI	10.1063/1.3310803 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Duk‐Yong Choi; Steve Madden; Douglas Bulla; Rongping Wang; Andrei V. Rode; et al 出版日期：2010-03-01
求助人	LS 在 2024-09-03 11:43:22 发布自中国，悬赏 10 积分
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