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 Bonding Structure and Dry Etching Characteristics in Amorphous B-C-N Films for Hardmask Applications 硬掩模用非晶B-C-N薄膜的键合结构和干法刻蚀特性
相关领域
无定形固体
干法蚀刻
材料科学
蚀刻（微加工）
结晶学
纳米技术
化学
图层（电子）
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期刊：Carbon 作者：Hongik Kim; Ung-gi Kim; Deokgi Hong; Sung‐Tae Kim; Seungwu Han; et al 出版日期：2024-05-06 |
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