标题 |
Parallel two-photon lithography achieving uniform sub-200 nm features with thousands of individually controlled foci
并行双光子光刻实现具有数千个单独控制焦点的均匀亚200 nm特征
相关领域
光学
平版印刷术
材料科学
制作
无光罩微影
飞秒
激光器
光学(聚焦)
数字微镜装置
微透镜
光刻
衍射
光电子学
光掩模
X射线光刻
纳米光刻
抵抗
电子束光刻
纳米技术
物理
替代医学
病理
镜头(地质)
医学
图层(电子)
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Optics Express 作者:Shunhua Yang; Chenyi Su; Songyun Gu; Qiuyuan Sun; Qi Sun; et al 出版日期:2023-03-29 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|