标题 |
Ferroelectric Hafnium Oxide Films for In‐Memory Computing Applications
用于内存计算的铁电氧化铪薄膜
相关领域
材料科学
神经形态工程学
铁电性
冯·诺依曼建筑
晶体管
光电子学
二极管
非易失性存储器
数码产品
场效应晶体管
记忆电阻器
纳米技术
工程物理
电子工程
计算机科学
电气工程
工程类
电介质
电压
机器学习
人工神经网络
操作系统
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Advanced electronic materials 作者:Zhenhai Li; Tianyu Wang; Jiajie Yu; Jialin Meng; Yongkai Liu; et al 出版日期:2022-10-07 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|