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 Impact of high temperature annealing on La diffusion and flatband voltage (Vfb) modulation in TiN/LaOx/HfSiON/SiON/Si gate stacks 高温退火对TiN/LaOx/HfSiN/SiN/Si栅极叠层中La扩散和平带电压调制的影响
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：R. Boujamaa; S. Baudot; N. Rochat; R. Pantel; E. Martínez; et al 出版日期：2012-03-01 |
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