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标题
Next step in Moore’s law: high NA EUV system overview and first imaging and overlay performance
摩尔定律的下一步：高NA EUV系统概述以及首次成像和叠加性能
相关领域
极紫外光刻 覆盖 计算机科学 政治学 光学 物理 操作系统
网址
https://doi.org/10.1117/1.jmm.24.1.011009
DOI
10.1117/1.jmm.24.1.011009 doi
其它 期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology
作者：Jan van Schoot; Rob van Ballegoij; Hans Butler; Eelco van Setten; Guido Schiffelers; et al
出版日期：2024-12-06
求助人
大力灵凡 在 2025-02-25 19:40:16 发布自江苏，悬赏 20 积分
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