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![]() 射频反应磁控溅射20nm以下Al0.7Sc 0.3 N薄膜最佳沉积条件的研究
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期刊:Advanced electronic materials 作者:Seung Kyu Ryoo; Kyung Do Kim; Hyeon Woo Park; Yong Bin Lee; Suk Hyun Lee; et al 出版日期:2022-09-02 |
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