标题 |
Insights into the atomic-scale removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing with quartz glass
石英玻璃等离子体辅助抛光中单晶金刚石原子级去除机理的探讨
相关领域
抛光
钻石
石英
材料科学
机制(生物学)
原子单位
等离子体
Crystal(编程语言)
复合材料
纳米技术
计算机科学
物理
量子力学
程序设计语言
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DOI | |
其它 |
期刊:Tribology International 作者:Nian Liu; Huilong Jiang; Junfeng Xiao; Jianguo Zhang; Xiao Chen; et al 出版日期:2024-06-01 |
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